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Advanced Materials Technology
Advanced Materials Technology HPLC-Säule HALO C4, 1000 Å, 2,7 μm, 1 x 150 mm
C4- und steril geschützte ES-C18-Phasen Hervorragende Hochtemperaturstabilität (bis zu 90 ° C) für verbesserte Peakform und Erholung 2 μm Einlassfritte Druckgrenze 600 bar / 9000 psi
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